上海新阳半导体材料股份有限公司(中国高新技术企业)

上海新阳半导体材料股份有限公司，简称上海新阳，成立于2004年5月12日，是一家位于上海从事研发设计、生产制造、销售服务电子化学品和配套表面处理设备的企业。

上海新阳半导体材料股份有限公司，主要业务在电子化学品和配套设备的研发、生产与销售，服务于半导体、电子、太阳能和航空航天等领域。与多家知名机构建立长期合作关系，形成了完整的自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技术，产品广泛应用于集成电路制造等领域。同时还进军碳涂料工程防腐与装饰业务领域，拥有控股和参股子公司10余家。

上海新阳荣获多项国内外荣誉和认证，2011年在深圳证券交易所上市。荣获多项荣誉和认证，包括科技进步二等奖、专精特新“小巨人”企业，优秀供应商等奖项。同时积极拓展国际市场，在投资领域也取得显著成果。至今，已成为半导体材料领域的创新领导者。

发展历程

初创时期

2004年5月12日，上海新阳半导体材料股份有限公司在上海注册成立。从事研发设计、生产制造、销售服务电子化学品和配套表面处理设备。服务于电子行业、半导体制造及封装测试业、太阳能产业和航空航天等高科技领域。

2009年9月29日，获得上海市环保局颁发的关于使用Ⅲ类射线装置的辐射安全许可证。

股改上市

2011年6月在深圳证券交易所创业板上市（简称：上海新阳，代码：300236）。

2013年，上海新阳收购江苏考普乐新材料有限公司，成功进军布局氟碳涂料工程防腐与装饰业务领域。

2015年12月28日，上海新阳“65-45nm芯片铜互连超高纯电镀液及添加剂研发和产业化”项目通过验收。

2021年12月16日，公司与Heraeus Deutschland GmbH \u0026 Co. KG围绕半导体行业用光刻胶产品及相关材料签署了《合作备忘录》。

2022年4月6日，上海新阳公告，拟以1亿元参与江苏新潮创新发起设立的投资基金，基金名称为江苏新潮万芯创业投资合伙企业（有限合伙），新潮万芯基金初始募集规模3.14亿元。

发展现状

截止2023年，现有200余人的员工，有博士硕士19人、学士60人、大专以上学历占员工总数的60%以上。厂区占地80余亩，已建厂房17000平方米，拥有1000级超净厂房360平方米和设施齐备的现代化实验室2000平方米。

公司并购事件

机构业务

主营业务

设有电感耦合等离子体原子发射光谱仪（ICP-AES）、扫描电子显微镜（SEM）、X射线能谱仪（EDX）、离子色谱分析仪（IC）、总有机碳分析仪（TOC）、颗粒检测仪（Particle Counter）、伏安循环曲线电化学工作站（CVS）、原子吸收光谱（AAS）、气相色谱仪（GC）、冷热循环实验仪（TCT）、盐雾试验箱、恒温恒湿试验箱等大型分析检验仪器设备。大马士革铜互连、TSV 、Bumping电镀液及配套添加剂、铜制程蚀刻后清洗液、铝制程蚀刻后清洗液、氮化硅蚀刻液、化学机械研磨后清洗液、无铅纯锡电镀液及添加剂、去毛刺溶液、逻辑和模拟芯片制造用的I线光刻胶、KrF光刻胶、 ArF干法光刻胶、存储芯片制造用的KrF厚膜光刻胶、底部抗反射膜(BARC)。

主要产品

半导体传统封装、半导体制造及先进封装、航空航天飞行器电子元器件化学材料。

经营范围

制造加工与电子科技、信息技术、半导体材料、航空航天材料有关的化学产品、设备产品及零配件，销售公司自产产品并提供相关技术咨询服务，从事与上述产品同类商品（特定商品除外）的进出口、批发业务及其它相关配套业务。

合作资源

2020年8月13日，与上海晖研材料科技有限公司于签订《战略合作协议》，双方拟就化学机械抛光液（CMP Slurry）的开发、生产、销售开展合作。

2021年12月16日，与德国贺利氏围绕半导体行业用光刻胶产品及相关材料展开战略合作。

上海新阳与复旦大学、上海交通大学、香港应用研究院、新加坡微电子研究院（IME）等建立长期的科研项目开发、学术交流、人才培养合作，建立了互动互信的项目开发合作关系。拥有客户180余家。

机构治理

股权结构

主要负责人

参股控股公司

科技创新

上海新阳经过持续不断地研发创新，形成了拥有完整自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技术，已申请授权国家专利210项，其中国内发明专利102项，国际发明专利8项，用于晶圆电镀与晶圆清洗的第二代核心技术已达到世界先进水平。紧密围绕两大核心技术，开发研制出140多种电子电镀与电子清洗系列功能性化学材料，产品广泛应用于集成电路制造、3D-IC先进封装、IC传统封测等领域，满足芯片铜制程90-28nm工艺技术要求，相关产品已成为多家集成电路制造公司28nm技术节点的基准材料（Base Line），成为中国半导体功能性化学材料和应用技术与服务的知名品牌。公司已立项研发集成电路制造用高分辨率193nm ArF光刻胶及配套材料与应用技术，拥有完整自主可控知识产权的光刻胶产品与应用即将形成公司的第三大核心技术，公司在国内半导体功能性化学材料领域的地位将更加稳固。