正型光刻胶是一种用于光刻技术的化学物质，主要由光分解剂、碱性可溶性没药树和溶剂构成。这种光刻胶的特点包括分辨率高，能够获得精细的亚微米级线宽图形，同时具有良好的显影性能和较高的耐热性。
物理性质
正型光刻胶呈暗褐色液体状态，容易溶解于醚、酯、酮等多种有机溶剂。它是由重氮茶醒磺酸醋和线性PF经过特定的制备过程而成。
光学特性
当受到紫外线照射时，正型光刻胶中的光分解剂会发生分解反应，在光照区域内的化合物会溶解于有机或无机化合物碱性水溶液中。而未暴露的部分则得以保留，从而形成与母版一致的图案。
应用领域
正型光刻胶广泛应用于大规模集成电路、电子元件以及光学机械加工等领域。它的快速感光速度使其适合于投影曝光和分步重复曝光等工艺。此外，正型光刻胶还表现出对多种材料的良好粘附性和抗腐蚀性，如二氧化硅、多晶硅、铝、铜、金、铂等。在相对湿度50%的环境中，正型光刻胶的显影和曝光操作具有较大的宽容度，易于剥离，并能承受高达140℃的烘焙温度而不变形。