武汉太紫微光电科技有限公司是2024年5月31日成立于湖北省武汉市的科技公司,注册资本为200万元,法人代表为朱明强

2024年10月,武汉太紫微光电科技有限公司在中国率先攻克合成光刻胶所需的原料和配方,中国芯片制造关键原材料取得瓶颈性突破。

发展历程

武汉太紫微光电科技有限公司(以下简称为“太紫微公司”)成立于2024年5月31日,由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。太紫微公司致力于半导体专用高端电子化学品材料的开发,并以新技术路线为半导体制造开辟新型先进光刻制造技术,同时为材料的分析与验证提供最全面的手段。

2024年10月,武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品,已通过半导体工艺量产验证,实现配方全自主设计,在中国率先攻克合成光刻胶所需的原料和配方,中国芯片制造关键原材料取得瓶颈性突破,有望开创中国半导体光刻制造新局面。

组织架构

以上参考

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经营范围

武汉太紫微光电科技有限公司的一般项目有,自然科学研究和试验发展,工程和技术研究和试验发展,新材料技术研发,技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广,生物基材料聚合技术研发,生物基材料技术研发,电子专用材料研发,新材料技术推广服务,专用化学产品制造(不含危险化学品),新型膜材料制造,电子专用材料制造。(除许可业务外,可自主依法经营法律法规非禁止或限制的项目)

参考资料

武汉市太紫微光电科技有限公司.天眼查.2024-10-16

武汉市太紫微光电科技有限公司.水滴信用.2024-10-16

光谷创造,国产光刻胶通过量产验证!.中国光谷-今日头条.2024-10-16

光谷攻克芯片光刻胶关键技术.央广网.2024-10-16